专利申请号：200310120314.7   
公　开　号：CN1530429
申　请　日：2003.12.05           
公　开　日：2004.09.22
申　请　人：韩国海力士半导体有限公司

　　本发明揭示一种用于光阻剂的清洁溶液，其可在形成光阻剂图案的显影最终步骤中用于清洁半导体基材。还揭示一种使用该溶液形成光阻剂图案的方法。本发明所揭示的清洁溶液包括作为溶液的H₂O、作为表面活性剂的式1所示的磷酸盐-醇胺盐、及醇化合物。本发明所揭示的清洁溶液比用作常规清洁溶液的蒸馏水具有更低的表面张力，因而可改善对光阻剂图案坍塌的抗性并可稳定光阻剂图案的形成。式1 中R、x、y、z、a及b如说明书中定义。